Novec™ 电子级氟素界面活性剂
为低金属含量的界面活性剂,用来添加于各种制程的液体及涂料中,可降低表面张力,改善湿润,平整及控制流量的特性。
例如:在半导体产业中,可改善金属蚀刻液及其他水相的微电子制程中化学物质(如低 pH溶液)的穿透性。也可作为光阻、光阻去除剂、芯片边缘水珠去除液、抗反射涂料及旋转式涂布玻璃膜中的润湿剂。
Novec 电子界面活性剂配方采用永续化学技术,可溶性极佳,容易混合,金属含量低,可重覆连续过滤。
阴离子型-Novec™ 4200,4300
简介:
Novec™ 4200是阴离子界面活性剂,由25%氟烷基磺酸亚酰胺铵盐+75%水组成;适合用于缓冲型氢氟酸及稀释型氢氟酸、起泡少,金属含量超低(<500ppb)。
另外,也可以加入去离子水做冲洗润湿使用。
Novec™ 4300是阴离子界面活性剂,由20%氟烷基磺酸胺+80%冰醋酸所组成,在低PH值的溶液中还能维持低表面张力。适合用于磷酸、醋酸、硝酸等混合酸【PAN】的金属蚀刻液,也可作为铬酸雾滴抑制剂,金属离子含量<30 ppm。
适用:
建议添加量为0.02%-0.2%,可将溶液系统的表面张力降至18-35 dyne/cm为精密清洗用界面活性剂,适合半导体及相关制程。
产品特色与优点:
1.只需低浓度就有很好的效果2.对蚀刻率的影响很小,几乎没有影响
3.泡沫少
4.可过滤
5.低表面吸附量
物性 | ||
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Novec™ 4200 | Novec™ 4300 | |
外觀 | 澄清透明液體 | 淺黃色液體 |
比重 | 1.14g/cc | 1.1g/cc |
粘度 | 1 | 1.2cp |
組成 | 氟烷基磺酸亞醯胺銨鹽25% 水75% |
氟烷基磺酸胺20% 冰醋酸80% |
金屬含量 | <500ppb | <30ppm |