Novec™ 电子级氟素界面活性剂
为低金属含量的界面活性剂，用来添加于各种制程的液体及涂料中，可降低表面张力，改善湿润，平整及控制流量的特性。
例如：在半导体产业中，可改善金属蚀刻液及其他水相的微电子制程中化学物质（如低 pH溶液）的穿透性。也可作为光阻、光阻去除剂、芯片边缘水珠去除液、抗反射涂料及旋转式涂布玻璃膜中的润湿剂。
Novec 电子界面活性剂配方采用永续化学技术，可溶性极佳，容易混合，金属含量低，可重覆连续过滤。
阴离子型-Novec™ 4200，4300
简介：
Novec™ 4200是阴离子界面活性剂，由25%氟烷基磺酸亚酰胺铵盐+75%水组成；适合用于缓冲型氢氟酸及稀释型氢氟酸、起泡少，金属含量超低（<500ppb）。
另外，也可以加入去离子水做冲洗润湿使用。
Novec™ 4300是阴离子界面活性剂，由20%氟烷基磺酸胺+80%冰醋酸所组成，在低PH值的溶液中还能维持低表面张力。适合用于磷酸、醋酸、硝酸等混合酸【PAN】的金属蚀刻液，也可作为铬酸雾滴抑制剂，金属离子含量<30 ppm。
适用：
建议添加量为0.02%-0.2%，可将溶液系统的表面张力降至18-35 dyne/cm为精密清洗用界面活性剂，适合半导体及相关制程。
产品特色与优点：
1.只需低浓度就有很好的效果2.对蚀刻率的影响很小，几乎没有影响
3.泡沫少
4.可过滤
5.低表面吸附量
| 物性 | ||
|---|---|---|
| Novec™ 4200 | Novec™ 4300 | |
| 外觀 | 澄清透明液體 | 淺黃色液體 |
| 比重 | 1.14g/cc | 1.1g/cc |
| 粘度 | 1 | 1.2cp |
| 組成 | 氟烷基磺酸亞醯胺銨鹽25% 水75% |
氟烷基磺酸胺20% 冰醋酸80% |
| 金屬含量 | <500ppb | <30ppm |